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99%以上的集成电路是硅集成电路 ，生产集成电路所需要的单晶硅 ，是在硅结晶生长始时 ，用提拉的法制成的。在单晶硅生产过程中 ，对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ，从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。其中用量大和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料的 单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料 图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 线性精度大于± 2 %。

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钎焊及固溶。结构类似传送带式炉）D． 连续式转筒炉 E． 辊底炉（料盘在辊子上运动）F． 转底炉，中频电炉设备主要应用领域: 1，机床导轨的淬火， 2，煤矿用截齿的焊接，矿山用一字钎头和梅花钎头的焊接， 4，直径30以下螺栓的热变形， 5，直径30以下的螺母的热变形， 6，金属粉末重熔， 7，直径300以下链轮的热， 8，直径80以下轴的淬火， 9。烧结连续式电阻炉A． 推送式炉 B． 传送带式炉 C． 网带炉（适用于薄小零件的退火直径80以下工件的横截面， 10，各种手工工具的淬火（锤子，斧头，管钳，断线钳）， 11，各种汽车工具的热变形（如套筒扳手）， 12，汽车，托车零部件的局部热， 13，各种机械零部件的的局部热（需厂家图纸及技术要求）。然而，随着温度的升高，硅的电阻率急剧下降, 在873k左右时减小到5Ω此时Si才达到了电磁悬浮熔炼的基本要求，硅在 金属相当。试验中使用石墨坩埚预热硅试样873K左右，使工业硅的电磁感应熔炼成为可能。